系统基本构成

该系统主要由进样室、有机室、电子枪室及真空系统等构成。

系统基本要求

工作稳定、易于操作，样品（基片）通过传样杆可在各真空室中的样品（基片）架间传递；由基片、有机、无机及金属材料薄膜构成的多层有机光电子器件可以不暴露大气一次制备成功；一个工作周期可以通过更换掩模制备多种不同结构的器件。

各真空室基本配置、要求

有机室

有机室：约øD450×500mm立式全不锈钢结构。

真空抽气系统：由机械泵、分子泵、离子泵、CF200闸板阀、及配套管阀组成。极限真空优于5×10^-7Pa。

功能：

• 主要用于有机材料沉积。
• 样品（架）可升降、旋转。
• 样品加热功能：~600°C。
• 样品挡板、样品传递、更换掩模。

蒸发源要求：

10个坩埚蒸发源及挡板（水冷）；其中6个温度超过800°C，用于有机材料热蒸发；4个温度超过1200°C，用于一些金属或无机材料热蒸发。

电子枪室：

电子枪室：约ø350-500×500-600mm立式全不锈钢水冷真空室。

真空抽气系统：由机械泵、分子泵、CF200闸板阀及配套管阀组成。极限真空优于2×10^-5Pa。

功能：

• 主要用于金属、无机材料沉积。
• 样品（架）可升降、旋转。
• 样品加热功能：~600°C。
• 样品挡板、样品传递、更换掩模。

电子枪：E型电子枪，功率6KW，四坩埚。

热蒸发电极：2组（共地）热蒸发水冷电极，功率：3KW

其他要求：进样门（带CF100视窗）；样品传递杆；观察窗（CF100）；预留CF35法兰接口，配进气阀、截止阀、照明等。

进样室：

进样室：约ø350×300mm立式全不锈钢结构。

真空抽气系统：使用有机室真空系统（机械泵+分子泵）。极限真空优于5×10^-4Pa。

功能：

• 样品（架）可升降、旋转。
• 样品加热功能：~600°C。
• 样品氧等离子子体处理。
• 样品及掩模存储，样品传递。

其他：两个进样门，其中一个带视窗（CF100），一个与手套箱连接；一套样品传递杆；观察窗2个（CF100）；预留CF35、 CF50、CF63法兰接口；配进气阀、截止阀、照明等。预留两个共溅射靶法兰接口。

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