主要用途：

这是功能齐全、技术性能高、结构复杂的先进设备。由多个真空室组成，抽气系统由分子泵、离子泵分别组成，获得10^-5~10^-8Pa高真空及超高真空室环境。具有磁控溅射、电子束蒸发、分子束外延束源炉、气路系统、膜厚监测、样品加热、传递、操作手套箱及计算机控制系统。

可以制备包括有机膜、金属膜、介质膜及半导体薄膜等，是一种理想的镀膜设备。

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