产品展示：真空器件
分子束外延束源炉
更新时间：2015-6-15
主要用途：
束源炉用于蒸发有机固态材料，以及单质和化合物半导体，高熔点金属材料。其中防止有机源过喷现象，有机固态材料高效率蒸发技术是国内首创，可实现手动或计算机控制，该产品不亚于进口同类产品。
技术指标：
1、最高使用限值：电压36V，电流25A。
2、坩埚容积：约2-6ml。
3、温度稳定性：温度可控制精度在±0.2°C以内。
4、束流稳定性：在蒸汽压小于1×10-5Pa情况下，束流的波动可控制在±0.05A/秒。
5、束流均匀性：在稳定的蒸发束流下，距束源口10cm的位置处直径2cm范围内的不均匀性小于±1%。
适合蒸发材料：高温束源炉：<1600°C 低温束源炉：<1000°C
温度稳定性：±0.2°C
专门为分子束束源炉设计的专用温控电源。利用电脑控制，使用方便、加热迅速，直观显示温度变化曲线，自适应功率调节。控温精度±0.5°C，加热温度可达1000°C。
