该设备主要是针对大型衍射光栅刻划所需金属膜层的制备，光栅尺寸的验收指标为420×520×100mm，并可以在420×660×100mm的样品上镀制高质量的金属膜和多层介质膜。

主要用途：

用于实验室在大面积样品上蒸镀金属膜、多层介质膜。

技术指标：

1. 衬底最大尺寸：420×660×100；镀膜最小尺寸：406×646；样品托尺寸可以保证在夹持420×660衬底的同时还可以夹持一块420×100×100的衬底，并在长度方向可调，以适应夹持不同尺寸的样品。
2. 极限真空度：8×10^-5Pa
3. 膜层厚度：金属膜层厚度15微米
4. 膜厚均匀性：400×500范围内：±2%
5. 具有膜厚监测

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