产品展示:PECVD、CVD等离子体化学气相沉积装置 当前位置:首页>>产品展示 PVD多功能超高真空薄膜制备系统 更新时间:2015-6-15 主要用途:多室,配制操作手套箱,分子泵及离子泵抽气系统,可获得洁净的10-6Pa超高真空。备有多个分子束外延束源炉、热蒸发、电子枪系统,膜厚测定。可用于制备有机材料薄膜及各种薄膜。 【返回】 上一条:HD系列金属有机源化学气相沉积设备(聚光型高效太阳能电池制备系统) 下一条:金属有机膜制备系统(MOCVD)