产品简介：

该装置用于低温环境材料辐照实验研究，实验材料在-150°C至常温温度区间于良好的控温测温条件下进行材料辐照实验。该装置由靶室总成（真空获得、真空测量、台架）、前置探测器、后置探测器、低温环境辐照组件、低温制冷系统及电控系统组成。

技术指标：

靶室总成真空度达10^-8mbar，漏率优于1×10^-9Pa·L/s；

靶室采用圆筒状卧式安装模式配方形活动门，便于取样操作，同时符合平台其他运行安装条件；

束流中心高度约1850cm，靶室支架高度可调节，结构坚固、稳定、美观；

前置组合式束流探测器集成法拉第筒及荧光靶。法拉第筒为穿透式设计，自动化控制设计方式驱动两工位（法拉第筒位置、荧光靶位置）。

后置探测器为拦截式设计；自动化控制设计方式驱动两工位（束流传输、束流拦截测量）。

低温环境辐照组件及低温制冷系统：

1.自动化控制，设置三个点位——束流传输、辐照位置、靶室外取样位置，控制精度<0.3mm；样品尺寸15×15mm；

2.温控要求：-150°C-常温，温度控制精度±2°C；

3.温控方式：通过低温制冷系统控制液氮流量进行相变制冷。可达到降温速度：-30°C每分钟。

电控系统：

1.控制原理和控制效果：

采用双输出温控器，一路控制液氮泵速，一路控制银质样品台上的加热元件，通过功率配合调节，实现银质样品台的定点控温和升降温速度可控。

2.系统包括：

上位机温控软件、双输出温控器、变温装置（含银质样品台）和液氮组件。

3.系统可接入平台现有终端控制系统

电脑与PLC触摸屏联合控制。温控软件可以导出温度和时间数据，也可以提供LABVIEW二次开发接口。

可实现常温和低温辐照靶室的自由切换。

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