超高真空四靶磁控溅射系统
更新时间：2015-6-15

超高真空四靶磁控溅射系统可制备金属膜、介质膜及半导体膜。广泛应用于生产和材料科学研究领域。可根据用户不同制备薄膜工艺要求，优化设计，提供适用设备。

　

目前沈阳慧宇真空技术有限公司已为中科院北京半导体研究所、南昌大学、北京科技大学、中科院半导体研究所、中国科技大学等各大专院校、科研院所成功研制该种设备。

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