多功能超高真空磁控、离子束溅射设备
更新时间：2015-6-15

主要用途：多真空室，采用分子泵抽气系统，真空度可达10-6Pa。具有磁控溅射靶及离子源，样品加热、自转、公转、传递，可用于制备金属膜、介质膜及半导体薄膜等。

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