超高真空场发射装置
更新时间：2015-6-15
主要用途：用于各种材料和纳米结构的场发射性能检测。结构特点：真空度5×10-7Pa，球形真空室尺寸300，样品大小10，加热温度500°C。
技术指标：可以详细分析材料的开启电场、阈值电压及其场发射稳定性等相关性能参数。
结构特点：真空度5×10-7Pa，球形真空室尺寸300，样品大小10，加热温度500°C。
技术指标：可以详细分析材料的开启电场、阈值电压及其场发射稳定性等相关性能参数。
