卷绕式高真空多靶磁控溅射仪
更新时间：2015-6-15
主要用途：
在柔性带上连续镀膜，用于镀制单层膜。由溅射室、卷绕系统、矩形磁控靶及电源、样品加热系统、样品退火系统、泵抽系统、真空测量系统、电控系统、气路系统等组成。
技术指标：- 真空室：分为收带室、放带室和溅射室：分别约为内径400×300（mm)。
- 极限真空：2×10-5Pa。
- 单靶溅射：靶在上，基片在下，手动调节靶间距30-80mm。射频电源：1000W一台（进口）。
- 衬底：柔性工程塑料带，150mm宽×0.05mm厚。步进电机控制操作；样品移动速度：1-10mm/min连续可调，自动控制。衬底加热，室温-200°C退火，温度200°C。
- 气路系统：一路质量流量控制进气，水冷报警系统。
