产品展示：磁控溅射设备
JGP系列超高真空多靶磁控溅射仪
更新时间：2015-6-15
技术指标：
- 真空室：内径500×300 内径600×350 内径800×350
1000×120×300mm矩形 - 极限真空：6.6×10-8Pa
- 磁控靶：内径50-内径200,1-4只；DC与RF兼容
水冷，可根据需要选型
尚可配置矩形靶：300×120
圆柱靶：内径76×300-700
电磁靶：内径70 - 可制备样品尺寸：内径50-内径150mm 内径200×300mm
可选择冷却、加热、反溅射清洗、公转、自转等功能。样品加热温度可达600°C.
其他选择增加功能：膜厚测试、反应溅射、离子束增强磁控溅射。