产品展示：磁控溅射设备 当前位置：首页>>产品展示 多功能超高真空磁控、离子束溅射设备 更新时间：2015-6-15 主要用途：多真空室，采用分子泵抽气系统，真空度可达10-6Pa。具有磁控溅射靶及离子源，样品加热、自转、公转、传递，可用于制备金属膜、介质膜及半导体薄膜等。 【返回】 上一条：JGP系列超高真空多靶磁控溅射仪 下一条：激光沉积磁控溅射联合镀膜系统
