主要用途：

磁控溅射仪设备已形成系列产品，多种规格型号、单室、双室、多室各种形式。与蒸发、电子束、激光镀膜联合组成多功能镀膜系统。

特别适用于新材料、新器件、新工艺研究，多室连续磁控制镀膜设备已用于生产。

研制的单面磁控靶；矩形、柱形磁控靶；电磁磁控靶及对靶溅射等。直流（D.C)射频（RF)兼容。可以镀制作各种薄膜材料。采用分子泵抽气系统，提供洁净的真空环境，用于制备金属膜、介质膜及半导体薄膜。多靶可以制备各种多层膜，备有样品预处理室可对样品进行反溅清洗、热处理等。设备功能齐全，技术指标先进，可根据用户要求进行设计，以满足用户各种不同需求。

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