主要用途：

设计的直线布局的功能薄膜材料制备系统，布局合理，操作简便，交叉污染少，工艺性好，同时具有多靶磁控溅射、蒸发镀膜、有机分子束外延，膜厚度测量，有机材料纯化，超净操作功能。适用于有机和无机的薄膜制备和掺杂。

该系统装有国内领先的计算机自动控制一体化的束源炉温控系统。

技术指标：

• 极限真空：10^-5Pa
• 蒸发技术：分子束外延、磁控溅射
• 靶源：10个，最小需样品量低于5mg
• 膜厚测量：<0.5mm
• 分区程序控温：有机600度，无机1200度
• 升华舟容积：50CC、5CC、0.5CC

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