主要用途：

主要用于大口径光学元件的研究和制作。装置具有离子束刻蚀系统，精密传动工作台，离子束流探测，激光在线测量系统，高真空系统和气路系统等组成。

技术指标：

• 真空度：5×10^-4Pa
• 工作真空：2×10^-2Pa
• 可刻蚀面积：400×400mm²
• 纵向扫描行程：450±0.02mm
• 横向偏摆误差：±0.02mm
• 速度均匀性：好于0.5%

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