主要用途：

设计的星形布局的功能薄膜材料制膜系统，布局合理，操作简便，传送样品路线短，交叉污染少，工艺性好，同时具有多靶蒸发和溅射成膜，膜厚度测量，有机材料纯化、 超净操作功能。适用于有机小分子和金属的薄膜制备和掺杂。

该系统装有国内领先的计算机自动控制一体化的束源炉温控系统，氮化硼坩埚的标准的分子束外延炉及超微量有机材料蒸发器并具有多元扩展功能。

技术指标：

• 极限真空：10^-5Pa
• 蒸发技术：分子束外延
• 靶 源：10个，最小需样品量低于5mg
• 膜厚测量：<0.5mm
• 分区程序控温：300-400°C
• 升华舟尺寸：50CC   5CC   0.5CC

上一条：为中国科技大学研制的大型离子束刻蚀装置

下一条：超高真空多功能薄膜制样系统