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超高真空场发射装置
更新时间:2015-6-15

超高真空场发射装置

主要用途:

用于各种材料和纳米结构的场发射性能检测。

结构特点:

真空度5×10-7Pa,球形真空室尺寸300,样品大小10,加热温度500°C。

技术指标:

可以详细分析材料的开启电场、阈值电压及其场发射稳定性等相关性能参数。

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