主要用途：

真空蒸发镀膜设备具有立式、卧式和箱型等结构不锈钢真空室，主要用于真空蒸发金属或其他材料以获得需要的膜层。可制备光学膜、半导体膜、金属膜等，广泛应用于电子学、 材料科学、光学、精密加工等领域的科研与生产中。

技术指标：

• 真空室尺寸：（内径）450×550（高）
• 极限真空：6.6×10^-5Pa （分子泵系统）
• 蒸发源：电阻式2-7对
• 功  率：2-3KW
• 样品尺寸：直径300mm.
• 烘烤温度：200°C.
• 离子轰击：0.6KW    3KV(D.C)

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