ZD系列电子束镀膜设备
更新时间：2015-6-15
主要用途：除具备真空蒸发镀膜功能外，配有电子束加热蒸发源（电子枪），可蒸发难熔金属及非金属材料，并可提高成膜质量和膜层的纯度。可用于制备各种光学膜、金属膜、半导体薄膜等。
技术指标：极限真空度：6.6×10-5Pa（分子泵系统）；真空室尺寸：ø450×ø600mm；电子束蒸发源：3KW 6KW；样品尺寸：ø300mm；加热温度：200°C。
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主要用途：除具备真空蒸发镀膜功能外，配有电子束加热蒸发源（电子枪），可蒸发难熔金属及非金属材料，并可提高成膜质量和膜层的纯度。可用于制备各种光学膜、金属膜、半导体薄膜等。
技术指标：极限真空度：6.6×10-5Pa（分子泵系统）；真空室尺寸：ø450×ø600mm；电子束蒸发源：3KW 6KW；样品尺寸：ø300mm；加热温度：200°C。
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