ZZ系列真空镀膜设备
更新时间：2015-6-15
主要用途：真空蒸发镀膜设备具有立式、卧式和箱型等结构不锈钢真空室，主要用于真空蒸发金属或其他材料以获得需要的膜层。可制备光学膜、半导体膜、金属膜等，广泛应用于电子学、材料科学、光学、精密加工等领域的科研与生产中。
技术指标：
真空室尺寸：（内径）450×550（高）
极限真空：6.6×10-5Pa （分子泵系统）
蒸发源：电阻式2-7对
功率：2-3KW
样品尺寸：直径300mm.
烘烤温度：200°C.
离子轰击：0.6KW 3KV(D.C)
